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现在的平面研磨机都是采用游离磨料,合适的研磨加工机器和研磨工艺的平面研磨，作为一种设备相对简单，又仍然可以得到很高的形体精度和表面质量的方法，依旧是超精密加工最有效的手段之一了。

那么超精密的平面研磨加工技术是研磨技术中的一种，可以获得极高的零件表面质量，主要是可以获得极高的面部精度 （平面度 平行度等）和无加工变质层的表面。现代高科技产品的制造，如单晶硅片 硬磁盘基片 压电陶瓷换能器等均需要采用超精密平面研磨加工技术。

超精密平面研磨可以分为四个基础组成成分----研磨盘研磨液磨粒和工件。研磨盘是精密研磨加工中的磨具，其面型精度对被加工件的面型精度影响非常大，模具表面形貌能在一定程度上复制到工件面上。

抛光是利用柔性抛光工具和磨料颗粒或其他抛光介质对工件表面进行的修饰加工。抛光不能提高工件的尺寸精度或几何形状精度，而是以得到光滑表面或者镜面光泽为目的，所以通常是作为精密加工最后的一道工序。因为研磨和抛光的原理来说基本是一致，所以通常所有的加工设备也可以通用，故经常将研磨和抛光并提，称之为研磨抛光技术。研磨抛光可以通过单盘单面研磨抛光或者双面研磨抛光实现。双面流离磨料研磨中工件在上下盘之间，研磨时上下表面被同时加工。单面抛光在对单面有平坦度的要求，背面形状复杂不易夹持或单平面基准面及高平坦之镜面加工要求时，或薄易碎而没有变形的情形下特别适用。单面游离磨料研磨抛光加工因其适应面广，仍然是应用最广泛的加工形式之一。

超精度抛光最大的特点是它不改变工件的面部精度，只是改善了其表面粗糙度，超精密抛光可使工件的表面粗糙度达到纳米级甚至次纳米级，超精密研磨最大的特点就是获得极高的面部精度，打一个比方，将精密平面研磨可以使工件的平面度达到十分之一甚至百分之一微米的水平。因此为使工件获得高的面型精度，低的表面粗糙度。我们会将精密研磨技术和超精密抛光技术并提，于是称之为超精密平面研磨抛光技术。取超精密研磨的高精度及超精密抛光的低表面粗糙度，从而加工出非常精密的零件。